172 Nm-es excimer lámpa fénycső ipari használatra

JELLEMZŐK

1. Egy hullámhosszú, koncentrált ultraibolya sugárzás

2. Nem-koherens fény, nagy területet fedhet le

3. Nincs korrózió az elektródán, hosszú élettartam

4. Bármikor be- és kikapcsolható, nem kell előmelegíteni

5. A bekapcsolást és a működést nem befolyásolja a környezeti hőmérséklet

6. Hideg fényforrás, nem hoz létre infravörös kimenetet, nincs nyilvánvaló melegítő hatása a feldolgozott tárgyra

7. Környezetbarát, higanymentes

MŰSZAKI ADATOK

1. Típusszám: UWB172-150W

2. Csúcs hullámhossz: 172 nm

3. Méret: 55600mm

4. Bemeneti feszültség: 220vAC

5. Teljesítmény: 150w

6. Nyalábszög: 100 fok

7. Radiation Intensity: 10mw/cm²(0cm)

8. Működési hőmérséklet tartomány: -10 fok - 150 fok

9. Élettartam: 4000 óra

ALKALMAZÁSOK

Felülettisztítás. Használható ostya és lapos kijelzők tisztítására, fotoreziszt eltávolítására

Felületi marás és módosítás, például poliimid, fluor anyagok stb.

Alacsony hőmérsékletű fotokémiai gőzleválasztás (Photo{0}}CVD). Ilyen például az elektronikus film TA2O5, HFO2 stb.

Oxidáció, könnyű izzítás. a SiO kemometriájának javítására₂elektronikus film

Katalitikus fémezés szobahőmérsékleten. fém elektródának műanyag felületbe történő lemezeléséhez

Felületi aktiválás a felületi feszültség és a nedvesség növelésére

Szerves lebomlás. távolítsa el a szerves szenet ultratiszta víz előállításához, a peszticid-maradékok lebontásához, valamint a nyomtatási és festési szennyvíz fotokémiai elszíntelenítéséhez

Nagy tisztaságú ózon keletkezik

A 172 nm-es excimer fényforrás előnye a felületmódosítási területen

A felületmódosítási technológiát számos ipari területen alkalmazzák. A hagyományos módszerekhez képest az excimer lámpákkal történő anyagmódosítás precíziós módosításnak minősül, mivel molekuláris vagy atomi szinten kémiai reakción keresztül megy végbe.

Ez egy tiszta módosítás, amely nem befolyásolja az anyagot és nem hoz létre porszemcséket, és hatékonynak tekinthető azokon a területeken, ahol kifinomultabb anyagmódosításra van szükség.

Vacuum UV light, at a wavelength of 172 nm, is produced by an excimer lamp. The 172 nm radiation is significantly absorbed by oxygen so that active oxygen of high concentration can be produced. Vacuum UV light can even break organic matter's molecular bonds, which helps it to provide advantages in many processes such as enhancing the cleaning quality, expediting the cleaning speed, and boosting the product yield.

A mikrofluidikus eszközöket számos területen alkalmazzák, beleértve a biológiai és orvosi alkalmazásokat is. Az ilyen finom szerkezetű készülékeknél a ragasztási technológia alkalmazása magasabb fokú minőségi és pontosságú kötési módszereket igényel. Az excimer lámpákat használó ragasztás nem igényel ragasztóanyagot és nem okoz termikus deformációt és sérülést, így alkalmas mikrofluidikus eszközök ragasztására.

A koronakisülés és plazma technikáknál a céltárgy közvetlenül ki van téve a kisülésnek, és megsérülhet. Az excimer lámpa technikában azonban a tárgyat egyszerűen vákuum UV fénnyel sugározzák be, és nem tapasztal semmilyen sérülést.

A koronakisüléses és plazmatechnikában az elektródák fröccsenése során keletkező porrészecskék a levegőáramlás hatására felfelé repülhetnek, és hozzátapadhatnak a céltárgy felületéhez. Az ilyen problémákat az excimer lámpa (172 nm-es excimer lámpa fénycső ipari használatra) technikával oldják meg, amely biztosítja a tiszta feldolgozást. A koronakisülést és más kisülést alkalmazó plazmatechnikáktól eltérően a fényt használó excimer lámpa technika nem okoz szabálytalan besugárzást, és egyenletes és hatékony feldolgozást ér el nagy területen.

Népszerű tags: 172 nm-es excimer lámpa fénycső ipari használatra, Kína, beszállítók, gyártók, gyári, testreszabott, nagykereskedelem, ömlesztve, árlista, raktáron, eladó